第724章 来吧，展示！遥遥领先！

传统的接触式光刻机，向来只有一个硅片载物台，掩模版的对准与压合全凭手稳，“差一丝，废一片”的说法，正是这种精密操作残酷性的真实写照。

江夏前期设计的时候，可没有翁师傅这种“鬼手”大师来个毛遂自荐。

为了突破接触式光刻的精度瓶颈，江夏在设计时，搞了个双平台骚操作！

一个是硅片载物台，用于承载和固定涂有光刻胶的硅片。专门驮着涂了光刻胶的硅片。要求贼变态，得能在x、y、z三个方向玩纳米级漂移还得保证绝对水平！

为了满足，镜面仙人可是费了不少的功夫在这上面，差点把头发都磨秃咯。

想要达到效果，原本江夏还准备在平台四角安装上四个螺旋测微头，这样操作员可以像调整机床夹具一样，通过旋转这四个微调旋钮，对掩模版进行微米级的平面度矫正和微小角度补偿，以对抗其自身形变或安装误差。

精度不够，手动来凑！

另一个是掩模版载物台，用于承载和固定光掩模板。这个可就厉害了，它可以在x、y、θ方向进行精密微调，并且具备z向的精密升降和压力控制功能！

同样的，为了达成这些功能，江夏设计了一个带有精密丝杠和重型弹簧缓冲的机构。操作员通过一个带有游标刻度的大手轮进行粗升降，接近掩模版时，则切换到一个连接着高精度千分表的微调手轮！通过观察千分表的指针读数，可以极其精确地控制硅片上升的距离。

同时，平台下方安装了一组经过标定的压力弹簧片，当硅片接触到掩模版时，弹簧片的微小形变会通过一个杠杆放大机构，在另一个表盘上显示出接触压力的大小！

操作员根据表盘读数，配合千分表，手动将压力调整到预设的安全值。下平台内部还预埋了热电偶，连接到一个老式的指针式温度表，用于监测硅片温度。

最后，再加上一个高倍率双筒显微镜系统，这样，光刻机测雏形就出现了！

厉害吧！

这还不算完！

小呆毛的终极梦想是——全自动光刻！

让俩平台像跳双人舞一样，自已对准，自已压合，彻底取代人手！

靠啥？

靠精密伺服电机当肌肉，光栅尺当眼睛实时反馈位置，再配上大黄分身跑的控制算法（pid啥的），闭环控制，完美！

但是……

嗯，是的，凡事都怕但是。

理想丰满，现实很骨感！

小呆毛画饼的时候就知道，这玩意儿搁现在，纯属做梦！

符合要求的超精密伺服电机？没有！